美光科技获得具有穿过半导体资料立柱的栅极资料的集成晶体管专利

  国家知识产权局信息数据显现，美光科技公司获得一项名为“具有穿过半导体资料立柱的栅极资料的集成晶体管，及构成集成晶体管的办法”的专利，授权公告号CN114245938B，请求日期为2020年7月。

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